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通過(guò)自動(dòng)化工作流程實(shí)現(xiàn)高效應(yīng)用。EVO 獨(dú)一無(wú)二的 X 射線幾何設(shè)計(jì)能確保在分析工作條件下達(dá)到最佳分辨率。三種不同尺寸的樣品室適用于各種大小樣品的高質(zhì)量成像。
標(biāo)配的可變電壓操作和可升級(jí)的全環(huán)境操作，能夠?qū)崿F(xiàn)材料的交互式實(shí)時(shí)觀察。通過(guò) EVO HD 將高分辨電子束技術(shù)引入傳統(tǒng)掃描電鏡，進(jìn)一步增強(qiáng)圖像襯度和提升分辨率。
EVO 能夠提高制造和質(zhì)量控制領(lǐng)域的工作效率。試想一下，將典型的工作流程從 400 多步操作簡(jiǎn)化為 15 步，以三種不同的放大倍率在 9 個(gè)樣本上對(duì)感興趣的 4 個(gè)點(diǎn)進(jìn)行成像。
智能化系統(tǒng)能夠自動(dòng)完成光路對(duì)中、調(diào)節(jié)放大倍率、聚焦和載物臺(tái)移動(dòng)– 一切都為最終的圖像采集。
系統(tǒng)會(huì)根據(jù)所選樣品設(shè)置最佳的成像條件。通過(guò)易于操作的 click-stop 按鈕控制鏡筒中間的光闌孔，從而獲得可靠且重復(fù)性高的檢測(cè)結(jié)果。
無(wú)與倫比的表面成像能力
您可以在低電壓下利用高分辨背散射電子探測(cè)器（HD BSD）實(shí)現(xiàn)具有清晰襯度的表面細(xì)節(jié)成像。
針對(duì)電子束敏感樣品或樣品表面形貌分析，電子束減速技術(shù)能夠在低加速電壓下提供更高的分辨率及更大的探針電流。與 EVO HD 功能強(qiáng)大的電子束源結(jié)合，體驗(yàn)卓越的掃描電鏡圖像品質(zhì)。
- 80x100x35mm 的 XYZ 軸行程
-
100mm 的最大樣品高度
EVO MA 15 是適用于多種重量和尺寸樣品的掃描電鏡。
應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋地質(zhì)學(xué)、法醫(yī)學(xué)和失效分析。
- 125x125x60mm 的 XYZ 軸行程
- 145mm 的最大樣品高度
- WDS 接口
EVO MA 25 是適用于大尺寸和大重量樣品分析的掃描電鏡。
應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋法醫(yī)學(xué)、博物館文物、汽車(chē)制造、航空、平板顯示器和印刷電路板。
EVO MA 25 包括：
- BeamSleeve 技術(shù)可實(shí)現(xiàn) 130x130x60mm 的 XYZ 軸行程
- 最大樣品高度 210mm
- 最大重量和直徑分別為 5kg 和 300mm
- 4 象限和 5 象限背散射成像
- 支持兩類(lèi)樣品室空間范圍
EVO HD
EVO HD 將高分辨電子束技術(shù)引入掃描電子顯微鏡，以提高低加速電壓下的圖像襯度和分辨率。
得益于更高的分辨率：輔助電極能夠?qū)艚z發(fā)射的電子束匯聚成更小直徑的虛擬光源。
相比于傳統(tǒng)鎢燈絲技術(shù)，EVO HD 能夠顯著增強(qiáng)亮度 ，在低電壓下亮度可提高 100 倍。
此外，您還可以使用 HD BSE 探測(cè)器和電子束減速技術(shù)來(lái)突出 EVO HD 光源的性能。
充分利用 EVO MA 的靈活性和分析成像能力，其應(yīng)用范圍涵蓋：
自然資源
- 研究表面形貌和檢測(cè)自然資源的礦物學(xué)信息
- 分析礦物和巖石的化學(xué)組份
制造
- 執(zhí)行常規(guī)分析以確保加工組件能滿足質(zhì)量和耐用性要求
- 依照 ISO 16232 標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行自動(dòng)顆粒度分析
- 分析組件缺陷和顆粒磨損
法醫(yī)學(xué)
- 分析犯罪證據(jù)，包括槍擊殘留物、假幣和毒物
材料研究
- 檢測(cè)和開(kāi)發(fā)材料
- 分析材料性能，如耐蝕性、耐熱性及涂鍍性能
武漢總部
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