Nicolet Almega XR 顯微和宏拉曼分析系統(tǒng)
發(fā)布時間: 2010-04-21 13:53
產(chǎn)品編號：
2281724316
產(chǎn)品名稱：
顯微和宏拉曼分析系統(tǒng)
規(guī) 格：
Nicolet Almega XR
產(chǎn)品備注：
鑒定和識別小顆粒--小至0.5微米。 最適合顆粒污染鑒定。
 產(chǎn) 品 說 明
|
|
Thermo Scientific Nicolet Almega XR提供最高效率和多功能性--尤其適用于樣品可能是任何物質而分析速度是至關重要時。
Nicolet Almega XR拉曼分析系統(tǒng)提供最高的采樣多功能性和效能。 該儀器專為致力于解決價值問題的實驗室而設計，它可快速生成結果及迅速重新配置以適用于各種樣品類型。 Nicolet Almega XR支持微量和宏量采樣、多次激發(fā)激光以及各種自動化采樣模式。 幾乎所有的系統(tǒng)重新配置都通過軟件完成，操作人員能夠快速地在采樣模式之間切換， 多次激發(fā)激光優(yōu)化使用新樣品的系統(tǒng)。 大部分情形下，它可以在15秒內(nèi)更改配置并在屏幕上展示測量預覽結果。
Capabilities
-
鑒定和識別小顆粒--小至0.5微米。 最適合顆粒污染鑒定
-
高分辨率深度剖析和表層下分析透明和半透明樣品。 最適合用于特征化涂層、多層薄板、薄膜、夾雜物和次表面缺陷
-
有機和無機樣品。 光譜范圍提供低至100cm-1的測量，特別適用于無機物，因其通常具有低頻率帶
-
分子形態(tài)特性分析。 良好的碳分子和硅分子骨架可以較好的區(qū)分多晶型藥物以及無定形晶體硅和許多其他材料
-
自動化數(shù)據(jù)收集和用于制藥行業(yè)多晶體再結晶研究的分析套件
-
表面積和表層下的表征受益于x-y區(qū)域圖和x-z圖
-
通過玻璃和塑料包裝測量。 允許直接通過證物袋、安瓿注射劑和防護涂層測量
-
備有支持孔板、片劑陣列、試管和樣品瓶自動測量的樣品附件
-
使用可選的光纖探針對過大而無法放在顯微鏡下的樣品進行遠程取樣
High-Performance
-
快速配置切換允許重新配置和在數(shù)秒內(nèi)優(yōu)化使用新樣品的系統(tǒng)。
-
激光器、濾光片、光柵和孔徑的選擇完全由軟件控制。
-
用于快速測量的高靈敏度
-
極佳的空間分辨率--證明顯示與在適用樣品上的540nm分辨率一致
-
極佳的共聚焦深度剖析--證明顯示與適用樣品上的1.7um一致
-
所有激光器都具有自動熒光校正功能
-
集成的Olympus BX-51研究顯微鏡
-
白光校正生成的光譜可與儀器和不同的激發(fā)激光之間的光譜相媲美
-
多維波長校準提供在整個范圍內(nèi)的準確波長校準； 校準過程為完全自動化，可使用軟件計劃在工作時間外（即儀器不在使用時）執(zhí)行校準
-
在共聚焦和高性能收集模式之間的軟件控制切換開關
-
專利的自動化宇宙射線抑制算法和高質量激光波長濾光片確保獲得完美的光譜
-
激光器功率可調(diào)節(jié)低至0.1%
-
優(yōu)化各個激光器的光柵，避免分享用于多個激光器的光柵的系統(tǒng)犧牲其效能
-
每個激光的高分辨率和低分辨率光柵與高精密波長驅動結合，提供高度靈活性以優(yōu)化光譜分辨率和光譜范圍--均完全由軟件控制。
-
專利的自動準直確保系統(tǒng)保持在如新的狀態(tài)中
-
專利的智能化背景自動移除CCD暗場功率配置
-
在顯微鏡和宏量采樣儲存室之間的切換完全由軟件控制
Versatility
-
顯微鏡測量、專用的宏量采樣使用自動取樣器功能和遠程光纖采樣功能完成--均在一個儀器內(nèi)
-
每個激光的高分辨率和低分辨率光柵與高精密波長驅動結合，提供高度靈活性以優(yōu)化光譜分辨率和光譜范圍--這一切均完全由軟件控制。
-
可選的抗斯托克斯測量功能
-
可選的極化拉曼測量
-
用于顯微鏡的加熱/冷卻階段選項
-
備有可用于宏量采樣的加熱/冷卻樣品室、濕度樣品室和電化學樣品室
-
光致發(fā)光測量模式
Software and Databases
-
備有廣泛的光譜庫收集（>16,000個化合物）
-
數(shù)據(jù)庫搜索算法優(yōu)化用于拉曼數(shù)據(jù)
-
功能強大的光譜搜索軟件提供在單一操作時識別材料的多組分
-
Omnic Atlus精密的成像和圖像分析軟件可快速定制化學圖像顯示
-
功能強大的宏制作工具可利用單一按鈕快速獲取重復性操作
-
Omnic陣列提供自動化數(shù)據(jù)收集和基于樣品格式（例如孔板）的陣列分析--最適用于多晶體再結晶實驗
-
連接到光譜的審查跟蹤功能會自動跟蹤所有采集參數(shù)和處理操作
Ease of Use
-
專利待決的Autoexposure簡化了優(yōu)化曝光時間和曝光次數(shù)的程序
-
只需單擊軟件即可更改激光器、濾光片和光柵以及優(yōu)化新組件的準直
-
準直程序在軟件中為全自動化。 用戶只需將準直工具放在顯微鏡下，軟件即會執(zhí)行其他步驟。 用戶不需要作出任何決策來指引程序
-
校準為完全自動，可使用軟件計劃在工作時間外執(zhí)行校準
Benefit of a Fully Integrated System
規(guī)格為主要系統(tǒng)規(guī)格而非組件規(guī)格。 這樣，可以隨時提供規(guī)格供終端用戶驗證，消除了通過結合組件規(guī)格計算系統(tǒng)效能的需要。
Reliability and Maintenance
-
系統(tǒng)只要求完全由系統(tǒng)控制的常規(guī)自動準直。
-
校準過程為完全自動，用戶無需對數(shù)據(jù)質量作出任何判斷來指引程序。
-
激光器可在不使用時自動關閉以確保其使用壽命
Laser Safety
-
顯微鏡個別具有一級激光安全認證。 （注意： 可選的光纖附件和一些其他可選的附件為class IIIb級激光裝置，要求激光防范措施和激光安全護目鏡。
-
激光通過物理方法阻擋視覺查看路徑以防止查看時暴露于眼睛。
Validation
-
備有可用的DQ/IQ/OQ/PQ驗證的完整套件，包括廣泛的文檔和自動化軟件協(xié)議
-
Omnic D/S軟件符合CFR 21第11部分規(guī)范
Recommended for:
-
法醫(yī)--痕跡證據(jù)和違禁藥物鑒定
-
制藥行業(yè)--多晶體、顆粒污染和擴散研究
-
藝術品修復/保存--識別和特性分析色素、樹脂、釉彩以及顏料
-
考古學--特性分析角質物、貝殼、骨頭和陶瓷仿制品
-
太陽能--硅晶體； 光電材料特性分析
-
聚合物--夾雜物和凝膠缺陷、風化效應、薄板帶層以及晶體
-
缺陷分析--特性分析顆粒和表面上的小點
-
寶石學--彩色寶石的快速鑒定，區(qū)分天然和合成鉆石、特性分析夾雜物和摻雜物
-
納米技術--特性分析graphene、CNT、DLC涂層和其他納米結構
-
學術研究--在材料科學、生物學研究和許多應用的研究領域特別有用
|
|
